Formation du plasma dans une décharge capillaire rapide assistée par effet de cathode creuse

I. Krisch; P. Choi; J. Larour; J. Rous; C. Dumitrescu; A. Chuvatin; S. Zakharov; C. Leblanc; M. Favre

doi:10.1051/jp4:2001712

Formation du plasma dans une décharge capillaire rapide assistée par effet de cathode creuse

I. Krisch
, P. Choi
, J. Larour
, J. Rous
, C. Dumitrescu
, A. Chuvatin
, S. Zakharov
, C. Leblanc
, M. Favre

Research output: Contribution to journal › Conference article › peer-review

Original language	French
Pages (from-to)	Pr7-33-Pr7-34
Journal	Journal De Physique. IV : JP
Volume	11
Issue number	7
DOIs	https://doi.org/10.1051/jp4:2001712
Publication status	Published - 1 Jan 2001
Event	5th Symposium on UV, VUV, and X Coherent and Incoherent Sources-Applications and Recent Developments- - Ile de Porqueroles, France Duration: 16 May 2000 → 19 May 2000

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10.1051/jp4:2001712

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TY - JOUR

T1 - Formation du plasma dans une décharge capillaire rapide assistée par effet de cathode creuse

AU - Krisch, I.

AU - Choi, P.

AU - Larour, J.

AU - Rous, J.

AU - Dumitrescu, C.

AU - Chuvatin, A.

AU - Zakharov, S.

AU - Leblanc, C.

AU - Favre, M.

PY - 2001/1/1

Y1 - 2001/1/1

U2 - 10.1051/jp4:2001712

DO - 10.1051/jp4:2001712

M3 - Article de conférence

AN - SCOPUS:5944220904

SN - 1155-4339

VL - 11

SP - Pr7-33-Pr7-34

JO - Journal De Physique. IV : JP

JF - Journal De Physique. IV : JP

IS - 7

T2 - 5th Symposium on UV, VUV, and X Coherent and Incoherent Sources-Applications and Recent Developments-

Y2 - 16 May 2000 through 19 May 2000

ER -