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A compact ultra-intense plasma-based EUV laser with circular polarization capability

  • Laboratory d'Optique Appliquée, ENSTA, CNRS-École Polytechnique
  • Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas
  • Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences
  • Université Paris-Saclay
  • Gwangju Institute of Science and Technology

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collectionContribution à une conférenceRevue par des pairs

Résumé

We demonstrated an original technique which allowed us to achieve ultrashort pulse duration EUV lasing by increasing the plasma density. As demonstrated using a lower density amplifier, the emission can be made fully circularly polarized.

langue originaleAnglais
titreCompact EUV and X-ray Light Sources, EUVXRAY 2016
EditeurOptica Publishing Group (formerly OSA)
ISBN (imprimé)9781943580095
Les DOIs
étatPublié - 14 mars 2016
EvénementCompact EUV and X-ray Light Sources, EUVXRAY 2016 - Long Beach, États-Unis
Durée: 20 mars 201622 mars 2016

Série de publications

NomOptics InfoBase Conference Papers
ISSN (Electronique)2162-2701

Une conférence

Une conférenceCompact EUV and X-ray Light Sources, EUVXRAY 2016
Pays/TerritoireÉtats-Unis
La villeLong Beach
période20/03/1622/03/16

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « A compact ultra-intense plasma-based EUV laser with circular polarization capability ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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