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A NEXAFS Study of Thin Polyacrylonitrile Films Electrochemically Deposited on Ni: The Effect of the Film Thickness and Annealing Treatment

  • Gérard Tourillon
  • , Richard Garrett
  • , Nancy Lazarz
  • , Michèle Raynaud
  • , Cécile Reynaud
  • , Gérard Lécayon
  • , Pascal Viel
  • Synchrotron SOLEIL
  • Brookhaven National Laboratory
  • Institut Pierre Simon Laplace, CNRS and CEA

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

Résumé

Polyacrylonitrile (PAN) thin films electrochemically deposited on Ni have been studied by near edge x-ray absorption fine structure, as a function of the film thickness and annealing treatment. For 20Å thick films, the polymer chains are oriented perpendicular to the surface with the C=N groups parallel to it. Below a few angstroms, no polymerization occurs but molecules are adsorbed perpendicular to the surface. Annealing at 300°C results in the loss of the majority part of the N content of the film in contrast with the admitted mechanism for bulk PAN.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)2499-2501
Nombre de pages3
journalJournal of the Electrochemical Society
Volume137
Numéro de publication8
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 1990
Modification externeOui

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    SDG 7 Énergie abordable et propre

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