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Formation du plasma dans une décharge capillaire rapide assistée par effet de cathode creuse

  • I. Krisch
  • , P. Choi
  • , J. Larour
  • , J. Rous
  • , C. Dumitrescu
  • , A. Chuvatin
  • , S. Zakharov
  • , C. Leblanc
  • , M. Favre
  • John Caunt Scientific Ltd.
  • Pontificia Universidad Católica de Chile

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticle de conférenceRevue par des pairs

langue originaleFrançais
Pages (de - à)Pr7-33-Pr7-34
journalJournal De Physique. IV : JP
Volume11
Numéro de publication7
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 2001
Evénement5th Symposium on UV, VUV, and X Coherent and Incoherent Sources-Applications and Recent Developments- - Ile de Porqueroles, France
Durée: 16 mai 200019 mai 2000

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