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Gas molecule dissociation effect on rf discharge burning in low pressure ammonia

  • V. Lisovskiy
  • , V. Yegorenkov
  • , J. P. Booth
  • , S. Martins
  • , K. Landry
  • , D. Douai
  • , V. Cassagne
  • Kharkov National University
  • Scientific Center of Physical Technologies, Kharkiv
  • Displays Division
  • Physical Sciences Division
  • CEA Cadarache
  • Total

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

5 Citations (Scopus)

Résumé

This Letter outlines the experimental study of molecule dissociation effect on rf capacitive discharge burning. We show that for each ammonia pressure value there exists some threshold rf voltage value below which the dissociation degree does not exceed 3%, but at higher rf voltage it grows to 30%. Increasing NH3 dissociation degree accelerates the discharge current growth against rf voltage. The rf discharge remains in a weak-current α-mode at low as well as at high dissociation degree because all ammonia dissociation products possess ionization potentials exceeding that for NH3.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)2238-2243
Nombre de pages6
journalPhysics Letters, Section A: General, Atomic and Solid State Physics
Volume376
Numéro de publication33
Les DOIs
étatPublié - 2 juil. 2012

Empreinte digitale

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