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Growth of microcrystalline silicon on flexible substrates

  • Institut polytechnique de Paris

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticle de conférenceRevue par des pairs

Résumé

In this paper we extend our previous studies of μc-Si:H deposition on glass to plastic foils, aiming to produce bottom gate TFTs. In particular, we have obtained films with a crystalline fraction as high as 96% even at 150°C, as deduced from UV-visible ellipsometry and Raman spectroscopy measurements. Moreover, we have used glass coated polyimide substrates to process bottom gate TFTs. Our first results show that even on these substrates we can achieve a mobility of 0.4 cm2/V.s.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)184-186
Nombre de pages3
journalSID Conference Record of the International Display Research Conference
Volume2005
étatPublié - 1 déc. 2005
Evénement25th Internatioanl Display Research Conference, EURODISPLAY 2005 - Edinburgh, SCO, Royaume-Uni
Durée: 20 sept. 200522 sept. 2005

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « Growth of microcrystalline silicon on flexible substrates ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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