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Highly-doped, highly-strained germanium and Schottky electroluminescent diodes

  • M. El Kurdi
  • , M. Prost
  • , A. Ghrib
  • , X. Checoury
  • , S. Sauvage
  • , N. Zerounian
  • , F. Aniel
  • , G. Beaudoin
  • , I. Sagnes
  • , V. Le Thanh
  • , T. K.P. Luong
  • , M. Chaigneau
  • , R. Ossikovski
  • , C. Baudot
  • , F. Boeuf
  • , P. Boucaud
  • CNRS
  • STMicroelectronics SA, France
  • Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
  • Aix-Marseille Université
  • University Hong Duc
  • Institut polytechnique de Paris

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticle de conférenceRevue par des pairs

Résumé

We demonstrate that room temperature electroluminescence can be obtained from n-doped germanium layers by using a Schottky contact. The electrical and optical properties of the Schottky device are improved by inserting a thin Al2O3 interfacial barrier. We also show that high active doping of Ge grown on Si can be obtained by molecular beam epitaxy by using a co-doping method with Sb and P. We finally discuss the transfer of tensile strain on microdisk resonators using silicon nitride stressor layers.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)359-364
Nombre de pages6
journalECS Transactions
Volume64
Numéro de publication6
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 2014
Evénement6th SiGe, Ge, and Related Compounds: Materials, Processing and Devices Symposium - 2014 ECS and SMEQ Joint International Meeting - Cancun, Mexique
Durée: 5 oct. 20149 oct. 2014

Empreinte digitale

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