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In-situ IR spectroscopy to study anodic oxidation of Si(111) in KOH solution

  • Harold G.G. Philipsen
  • , Jean Noël Chazalviel
  • , Philippe Allongue
  • , François Ozanam
  • , John J. Kelly
  • Utrecht University

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collectionContribution à une conférenceRevue par des pairs

Résumé

Fourier Transform Infrared (FTIR) spectroscopy was used to study in-situ the anodic oxidation of n-type Si(111) in KOH solution. Changes in surface chemistry were followed during oxide growth. The results are considered on the basis of a model developed from electrochemical measurements.

langue originaleAnglais
titreECS Transactions - 46th State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XLVI) and the 2nd International Symposium on Processes at the Semiconductor-Solution Interface
EditeurElectrochemical Society Inc.
Pages481-488
Nombre de pages8
Edition2
ISBN (Electronique)9781566775519
ISBN (imprimé)9781566775519
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 2007
Evénement46th State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XLVI) and the 2nd International Symposium on Processes at the Semiconductor-Solution Interface - 211th ECS Meeting - Chicago, IL, États-Unis
Durée: 6 mai 200710 mai 2007

Série de publications

NomECS Transactions
nombre2
Volume6
ISSN (imprimé)1938-5862
ISSN (Electronique)1938-6737

Une conférence

Une conférence46th State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XLVI) and the 2nd International Symposium on Processes at the Semiconductor-Solution Interface - 211th ECS Meeting
Pays/TerritoireÉtats-Unis
La villeChicago, IL
période6/05/0710/05/07

Empreinte digitale

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