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Interface electronic structure in a metal/ferroelectric heterostructure under applied bias

  • J. E. Rault
  • , G. Agnus
  • , T. Maroutian
  • , V. Pillard
  • , Ph Lecoeur
  • , G. Niu
  • , B. Vilquin
  • , M. G. Silly
  • , A. Bendounan
  • , F. Sirotti
  • , N. Barrett
  • CEA/UVSQ/CNRS
  • Institut d'Electronique Fondamentale
  • Université Paris-Saclay
  • Université de Lyon
  • Synchrotron SOLEIL

Résultats de recherche: Contribution à un journal › Article › Revue par des pairs

48 Citations (Scopus)

Résumé

The effective barrier height between an electrode and a ferroelectric (FE) depends on both macroscopic electrical properties and microscopic chemical and electronic structure. The behavior of a prototypical electrode/FE/electrode structure, Pt/BaTiO3/Nb-doped SrTiO3, under in-situ bias voltage is investigated using x-ray photoelectron spectroscopy. The full band alignment is measured and is supported by transport measurements. Barrier heights depend on interface chemistry and on the FE polarization. A differential response of the core levels to applied bias as a function of the polarization state is observed, consistent with Callen charge variations near the interface.

langue originaleAnglais
Numéro d'article155146
journalPhysical Review B - Condensed Matter and Materials Physics
Volume87
Numéro de publication15
Les DOIs
étatPublié - 26 avr. 2013
Modification externeOui

Empreinte digitale

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