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Low threshold current density InAs quantum dash lasers on InP using double cap technique

  • D. Zhou
  • , B. O. Fimland
  • , R. Piron
  • , O. Dehaese
  • , F. Grillot
  • , S. Loualiche
  • Norwegian University of Science and Technology
  • INSA Rennes

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collectionContribution à une conférenceRevue par des pairs

Résumé

Low threshold current density InAs quantum dash lasers is demonstrated by reducing the energy inhomogeneous broadening through an optimized double cap technique. A threshold current density for infinite cavity length of 225 A/cm2 (∼ 45 A/cm2 per stack) is obtained from 5-stack laser structure. The characteristic temperature of 52 K is measured in the temperature range between 25 and 70 °C.

langue originaleAnglais
titre2009 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology, CS MANTECH 2009
étatPublié - 1 déc. 2009
Modification externeOui
Evénement2009 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology, CS MANTECH 2009 - Tampa, FL, États-Unis
Durée: 18 mai 200921 mai 2009

Série de publications

Nom2009 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology, CS MANTECH 2009

Une conférence

Une conférence2009 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology, CS MANTECH 2009
Pays/TerritoireÉtats-Unis
La villeTampa, FL
période18/05/0921/05/09

Empreinte digitale

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