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Molecular hydrogen diffusion in nanostructured amorphous silicon thin films

  • University of Girona

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

10 Citations (Scopus)

Résumé

We study hydrogen stability and its evolution during thermal annealing in nanostructured amorphous silicon thin films. From the simultaneous measurement of heat and hydrogen desorption, we obtain the experimental evidence of molecular diffusion in these materials. In addition, we introduce a simple diffusion model which shows good agreement with the experimental data.

langue originaleAnglais
Numéro d'article073202
journalPhysical Review B - Condensed Matter and Materials Physics
Volume80
Numéro de publication7
Les DOIs
étatPublié - 17 août 2009

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « Molecular hydrogen diffusion in nanostructured amorphous silicon thin films ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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