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New 100 Hz repetition rate soft x-ray laser plasma source for ultrafast XANES applications

  • S. Fourmaux
  • , L. Lecherbourg
  • , M. Chagnon
  • , H. C. Bandulet
  • , P. Audebert
  • , J. C. Kieffer
  • INRS-ÉMT
  • LULI

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collection › Contribution à une conférence › Revue par des pairs

Résumé

We present here a laser based time resolved ultrafast XANES beam line operating with the 100 Hz ALLS facility laser system (100 mJ and 35 fs at 800 nm wavelength). This system is based on a broadband soft x-ray plasma source, produced with a tantalum solid target, and a grazing flat field incidence grating designed to work in the 1-5 nm range. This femtosecond x-ray absorption spectroscopy experimental set up is used to study ultrafast phase transition in vanadium dioxide (VO2). In this model system we are probing the electronic dynamics occurring during semiconductor to metal phase transition following excitation by a femtosecond laser pulse.

langue originaleAnglais
titreUltrafast X-Ray Sources and Detectors
Les DOIs
étatPublié - 1 déc. 2007
EvénementUltrafast X-Ray Sources and Detectors - San Diego, CA, États-Unis
Durée: 26 août 2007 → 27 août 2007

Série de publications

NomProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
Volume6703
ISSN (imprimé)0277-786X

Une conférence

Une conférenceUltrafast X-Ray Sources and Detectors
Pays/TerritoireÉtats-Unis
La villeSan Diego, CA
période26/08/07 → 27/08/07

Empreinte digitale

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