Passer à la navigation principale Passer à la recherche Passer au contenu principal

On the Physical Behavior of Cryogenic IV and III-V Schottky Barrier MOSFET Devices

  • Mike Schwarz
  • , Laurie E. Calvet
  • , John P. Snyder
  • , Tillmann Krauss
  • , Udo Schwalke
  • , Alexander Kloes
  • Robert Bosch GmbH
  • Université Paris-Saclay
  • JCap LLC
  • Technische Universität Darmstadt
  • Technische Hochschule Mittelhessen

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

Résumé

The physical influence of temperature down to the cryogenic regime is analyzed in a comprehensive study and the comparison of IV and III-V Schottky barrier (SB) double-gate MOSFETs. The exploration is done using the Synopsys TCAD Sentaurus device simulator and first benchmarked with experimental data. The important device physics of both SB-MOSFETs and conventional MOSFETs are reviewed. The impact of temperature on device performance down to the liquid-nitrogen regime is then explored. We find reduced drive currents in SB-MOSFETs fabricated on small effective mass materials and that SB lowering can significantly improve SB-MOSFETs, especially at low temperatures.

langue originaleAnglais
Numéro d'article7995078
Pages (de - à)3808-3815
Nombre de pages8
journalIEEE Transactions on Electron Devices
Volume64
Numéro de publication9
Les DOIs
étatPublié - 1 sept. 2017
Modification externeOui

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « On the Physical Behavior of Cryogenic IV and III-V Schottky Barrier MOSFET Devices ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

Contient cette citation