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Optimum doping level in a-Si:H and a-SiC:H materials

  • Institut polytechnique de Paris
  • Univ. de Reims Champagne Ardenne
  • Laboratoire d'Optique des Solides
  • Université Paris-Sud 11

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

Résumé

The changes in the optical and electrical properties of thick a-Si:H and a-SiC:H films doped with diborane are investigated. In situ spectroscopic ellipsometry measurements reveal that, at a ratio of diborane to silane Cg = [B2H6]/[SiH4]<10-3. the optical properties of both materials are not strongly modified by boron doping. However, in the case of a-Si:H films, an improvement of the morphological and optical properties is observed at Cg = 0.45×10-3. The existence of an optimum doping level at Cg<10-3 in the case of an a-Si:H p layer is confirmed by the dependence of the open-circuit voltage of a-Si:H based solar cells on the doping level of the p layer,

langue originaleAnglais
Pages (de - à)830-836
Nombre de pages7
journalJournal of Applied Physics
Volume83
Numéro de publication2
Les DOIs
étatPublié - 15 janv. 1998

Empreinte digitale

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