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Optoelectronic properties of a-Si:H films deposited from He-diluted silane

  • Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collectionContribution à une conférenceRevue par des pairs

Résumé

In-situ and ex-situ transient photoconductivity measurements of intrinsic a-Si:H films deposited from He-diluted SiH4 are presented. It is shown that material with good optoelectronic properties can be deposited at high deposition rates. The films can already be characterized during the deposition. It is shown that material with fairly different properties can be deposited with a relative low defect density.

langue originaleAnglais
titreAmorphous Silicon Technology
EditeurPubl by Materials Research Society
Pages73-78
Nombre de pages6
ISBN (imprimé)155899193X, 9781558991934
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 1993
Modification externeOui
EvénementProceedings of the MRS Spring Meeting - San Francisco, CA, USA
Durée: 13 avr. 199316 avr. 1993

Série de publications

NomMaterials Research Society Symposium Proceedings
Volume297
ISSN (imprimé)0272-9172

Une conférence

Une conférenceProceedings of the MRS Spring Meeting
La villeSan Francisco, CA, USA
période13/04/9316/04/93

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « Optoelectronic properties of a-Si:H films deposited from He-diluted silane ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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