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Process and Device Simulation of Schottky Barrier MOSFETs for Analysis of Current Injection

  • Mike Schwarz
  • , Laurie E. Calvet
  • , John P. Snyder
  • , Tillmann Krauss
  • , Udo Schwalke
  • , Alexander Kloes
  • NanoP
  • Université Paris-Saclay
  • JCap LLC
  • Technische Universität Darmstadt

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collectionContribution à une conférenceRevue par des pairs

Résumé

In this paper we focus on the implementation of a process flow of SB-MOSFETs into the process simulator of the Synopsys TCAD Sentaurus tool-chain. The improved structure containing topography is briefly discussed and further device simulations are applied with the latest physical models available for these type of devices. Afterwards, some key parameters are discussed and finally the results are compared with fabricated SB-MOSFETs in terms of accuracy and capability of process simulations.

langue originaleAnglais
titreProceedings of 25th International Conference Mixed Design of Integrated Circuits and Systems, MIXDES 2018
rédacteurs en chefAndrzej Napieralski
EditeurInstitute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
Pages67-72
Nombre de pages6
ISBN (imprimé)9788363578138
Les DOIs
étatPublié - 14 août 2018
Modification externeOui
Evénement25th International Conference "Mixed Design of Integrated Circuits and Systems", MIXDES 2018 - Gdynia, Pologne
Durée: 21 juin 201823 juin 2018

Série de publications

NomProceedings of 25th International Conference Mixed Design of Integrated Circuits and Systems, MIXDES 2018

Une conférence

Une conférence25th International Conference "Mixed Design of Integrated Circuits and Systems", MIXDES 2018
Pays/TerritoirePologne
La villeGdynia
période21/06/1823/06/18

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « Process and Device Simulation of Schottky Barrier MOSFETs for Analysis of Current Injection ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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