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Relative intensity noise of silicon-based quantum dot lasers

  • J. Duan
  • , H. Huang
  • , D. Jung
  • , J. C. Norman
  • , J. E. Bowers
  • , F. Grillot
  • CNRS LTCI
  • University of California, Santa Barbara
  • University of California
  • University of New Mexico

Résultats de recherche: Le chapitre dans un livre, un rapport, une anthologie ou une collectionContribution à une conférenceRevue par des pairs

Résumé

This work experimentally investigates the relative intensity noise (RIN) of semiconductor quantum dot (QD) lasers epitaxially grown on silicon. Owing to the low threading dislocations density and the p-modulation doped GaAs barrier layer in the active region, a RIN level as low as -150 dB/Hz at 9 GHz is demonstrated. The results show that the p-doping decreases the high-frequency RIN and the damping factor. In the latter, a damping factor up to 30 GHz at three times the threshold is extracted from the RIN spectrum along with a K-factor of 1.7 ns. These results pave the way for high speed and low noise QD devices for future integrated photonics technologies.

langue originaleAnglais
titre2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings
EditeurInstitute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ISBN (Electronique)9781728100807
Les DOIs
étatPublié - 1 mai 2019
Modification externeOui
Evénement2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Nara, Japon
Durée: 19 mai 201923 mai 2019

Série de publications

Nom2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings

Une conférence

Une conférence2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019
Pays/TerritoireJapon
La villeNara
période19/05/1923/05/19

Empreinte digitale

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