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Spin injection from a ferromagnetic metal into a semiconductor

  • Unité Mixte de Physique CNRS/Thales
  • Université Paris-Saclay

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

Résumé

We calculate the spin polarization of electrons injected from a ferromagnetic metal (F) into a semiconductor (SC) or a two-dimensional semiconductor electron gas (2-DEG) and the resulting magnetoresistance (MR) of a F/SC/F structure. Due to the conductivity mismatch between F and SC, efficient spin-injection can be obtained only by inserting a tunnel junction at the F/N interfaces. We find that a F 1/SF/F 2 structure can present a nonzero MR if the junction resistance is chosen in a relatively narrow range determined by the spin-diffusion length and resistivity of F and SC, the distance between the ferromagnets and the width of the conduction channels. The case of a 2-DEG is particularly favorable.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)8111-8113
Nombre de pages3
journalJournal of Applied Physics
Volume91
Numéro de publication10 I
Les DOIs
étatPublié - 15 mai 2002
Modification externeOui

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