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Study of the interfacial properties of amorphous silicon/n-type crystalline silicon heterojunction through static planar conductance measurements

  • Université Paris-Sud 11
  • Institut polytechnique de Paris
  • Total
  • Institute of Bioorganic Chemistry

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticle de conférenceRevue par des pairs

17 Citations (Scopus)

Résumé

We have previously shown from static planar conductance measurements that a strong inversion layer does exist in c-Si at the (n) a-Si:H/ (p) c-Si interface. This allowed us to determine the conduction band offset with a good precision (ΔEC = 0.15 +/- 0.04 eV). The same technique is now applied to study (p) a-Si:H/ (n) c-Si interfaces. We demonstrate that a strong inversion layer (of holes) also exists at the c-Si surface of this hetero-interface. Analysis of our planar conductance data with the help of numerical simulations allows us to set a lower limit to the valence band offset, ΔEV = EV,a-Si:H - EV, c-Si : ΔEV> 0.28 eV.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)1037-1040
Nombre de pages4
journalPhysica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics
Volume7
Numéro de publication3-4
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 2010
Evénement23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors, ICANS23 - Utrecht, Pays-Bas
Durée: 23 août 200928 août 2009

Empreinte digitale

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