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Sub-5 nm FIB direct patterning of nanodevices

  • J. Gierak
  • , A. Madouri
  • , A. L. Biance
  • , E. Bourhis
  • , G. Patriarche
  • , C. Ulysse
  • , D. Lucot
  • , X. Lafosse
  • , L. Auvray
  • , L. Bruchhaus
  • , R. Jede
  • Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies
  • Université d'Evry Val d'Essonne
  • Raith GmbH

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

137 Citations (Scopus)

Résumé

Nanoengraving of membranes as a template for nanopores fabrication is an application field of growing interest. Similarly to the formation of ion tracks in membranes created when high-energetic ions pass trough thin foils, it is possible with a FIB system to fabricate, design and organise nanodevices within thin membranes. In this work, we detail the advanced methodology we have carefully optimised for such deep sub-10 nm nanodevices fabrication using our high-performance FIB instrument.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)779-783
Nombre de pages5
journalMicroelectronic Engineering
Volume84
Numéro de publication5-8
Les DOIs
étatPublié - 1 mai 2007
Modification externeOui

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « Sub-5 nm FIB direct patterning of nanodevices ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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