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The peroxy radical model for the chemisorption of O2 onto silicon surfaces

  • W. A. Goddard
  • , A. Redondo
  • , T. C. McGill
  • California Institute of Technology

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticleRevue par des pairs

77 Citations (Scopus)

Résumé

We propose that an oxygen molecule chemisorbed onto the silicon surface has an electronic structure corresponding to a peroxy radical. Using this model we carried out extensive theoretical calculations including electron correlation (generalized valence bond with configuration interaction) obtaining excitation energies and ionization potentials.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)981-984
Nombre de pages4
journalSolid State Communications
Volume18
Numéro de publication8
Les DOIs
étatPublié - 1 janv. 1976
Modification externeOui

Empreinte digitale

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